Электронная промышленность (Серия Бета)

Установки серии Бета предназначены для нанесения проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления в вакууме на детали радиоэлектронной промышленности.

Особенности установки
  • Система управления параметрами работы магнетронов MagniFlex™;
  • распыление ферромагнитных материалов;
  • очистка подложек ионным пучком;
  • испарение материалов с помощью резистивных испарителей;
  • нагрев подложек ИК-нагревателями, работающими в присутствии плазмы магнетронного разряда;
  • двустороннее осаждение покрытий (опция);
  • контроль параметров осаждаемого покрытия;
  • малая площадь, занимаемая установкой.
Инновационные технологии
  • MagniFlex™ – система управления параметрами работы магнетронов.
Описание

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, ситалла, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий.

Установки оснащаются вертикальными цилиндрическими вакуумными камерами. Технологические устройства расположены на днище камеры. Подложки размещаются на вращающемся подложкодержателе над технологическими устройствами. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую поверхность. Нагрев подложек обеспечивается трубчатым электронагревателем, или кварцевым ИК-излучателем. Кварцевый ИК-излучатель может работать одновременно с магнетронными распылительными системами. Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно.

Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов от 50 до 150 мм. При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. По требованию Заказчика одна или несколько магнетронных распылительных систем могут быть заменены на резистивные испарители.

Установка может быть оснащена поворотными устройствами для нанесения покрытий на одну, или две стороны подложек. Разворот подложек производится в любой момент по команде оператора, или автоматически в заданные моменты технологического процесса. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе в непосредственной близости от обрабатываемых изделий.

Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью форвакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па.

Установка имеет моноблочную конструкцию, которая обеспечивает простоту транспортировки и монтажа. Для ввода в эксплуатацию установки необходимо только подвести к ней магистрали сжатого воздуха и охлаждающей жидкости, газопроводы с рабочими газами и подключить установку к трехфазной сети электропитания. При необходимости, в комплект поставки установки могут быть включены оборотная система охлаждения и воздушный компрессор (отдельно стоящие).

Технические характеристики

Бета-500 Бета-700
Рабочая зона (диаметр х высота), мм 500 х 300 700 х 350
Размер обрабатываемых пластин, мм 60х48 (до 100 мм — опция) 60х48 (до 100 мм — опция)
Количество обрабатываемых пластин 60х48 13 до 26
Материалы осаждаемых плёнок Ti, Cu, Cr, Ni, пермаллой, Al, резистивные сплавы, V, ITO и другие
Количество магнетронных распылительных систем от 1 до 3 до 5
Управление параметрами работы магнетронов Система MagniFlex™
Диаметр мишени МРС, мм 50 – 150
Поворотное устройство Одностороннее нанесение покрытий (двустороннее – опция)
Неравномерность наносимых покрытий, % ±2
Ионная очистка Цилиндрический ионный источник (протяжённый — опция) Протяжённый источник ионов
Количество каналов газоподачи 3
Предельное остаточное давление, Па 1∙10-4 (безмасляный вакуум)
Потребляемая мощность, кВт 10 15
Габариты установки (Ш х Г х В), мм 1700 х 850 х 2000 1850 х 850 х 2200
Масса установки, кг 600 800

Схема установки

Схема установки

Если у Вас возникли вопросы по оборудованию, и Вы готовы их обсудить напрямую с разработчиками, приглашаем Вас посетить наш демонстрационный зал. Кроме того, мы с радостью готовы предоставить Вам возможность познакомиться с оборудованием в живую, поскольку подключенная ко всем необходимым коммуникациям модель Бета 500 представлена в нашем демонстрационном зале.  

Обращаем Ваше внимание, мы готовы обсуждать любую модернизацию базовых моделей установок и  технологических устройств, чтобы удовлетворить потребности Заказчика. Если Вы еще не определились с детальными требованиями к необходимому Вам оборудованию, квалифицированные специалисты помогут составить техническое задание и оптимально решить Вашу задачу.