Ионные источники с фокусировкой ионного пучка

Для решения технологических задач могут потребоваться различные профили ионного тока в пучке. Например, для очистки и активации поверхности, где нужна максимальная зона обработки, подойдёт традиционная кольцевая форма пучка. Однако, для локальной коррекции ошибок профиля поверхности оптических деталей необходим ионный пучок небольшого диаметра с гауссовым распределением плотности ионного тока по радиусу. Кроме того, при обработке в одной и той же установке деталей разного размера или количества может потребоваться увеличение, или уменьшение зоны обработки. Для решения таких задач были разработаны ионные источники ИИ-100К и ИИ-200К, оснащённые запатентованной системой фокусировки ионного пучка. Конструкция этих источников позволят изменить форму профиля плотности ионного тока в пучке от кольцевой до гауссовой.