(Русский) Машиностроение (Серия Сигма)

Установка обеспечивает нанесение износостойких, упрочняющих, защитных, коррозионностойких, антифрикционных и других функциональных покрытий на изделия атомного, космического, авиационного и точного машиностроения. Напыление осуществляется с помощью дуговых испарителей и протяжённых магнетронных распылительных систем. В качестве покрытий могут быть нитриды, карбиды, оксиды металлов, а также алмазоподобные покрытия. Очистка деталей осуществляется источником ионов, выполненным по схеме ускорителя с замкнутым дрейфом электронов. Прогрев деталей обеспечивается трубчатыми электронагревателями.

Установка имеет модульную конструкцию и поставляется со стандартизированными легко масштабируемыми технологическими модулями. Это позволяет в кратчайшие сроки модифицировать установку под новые задачи.

D-образная в сечении вакуумная камера имеет ширину рабочего пространства 700 мм и высоту 830 мм. На боковых фланцах вакуумной камеры расположены модульные системы дугового испарения и магнетроны. В одном процессе может осуществляться испарение вакуумной дугой 4 различных материалов и магнетронное распыление 2 различных материалов. Применение системы Ротарк (RotArc, ДинаАрк, DynaArc, ГироАрк, GyroArc, КинетикАрк, KineticArc) позволяет увеличить коэффициент использования материала до 80 %. В дуговых испарителях применяется система инициации дуги ПлазмаДжет (PlasmaJet), исключающая сбои при поджиге разряда.

Кассета с обрабатываемыми деталями крепится на электроизолированной карусели. Максимальный вес кассеты 300 кг. Напряжение потенциала смещения до 1500 В, в постоянном, импульсном или биполярном режиме. Финишная чистка деталей осуществляется протяжённым источником ионов.

Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом с помощью широкодиапазонного пирометра. Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств.

Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10-4 Па.

Автоматика позволяет проводить процессы как в полностью автоматическом, так и в ручном режиме. Во избежание аварий предусмотрена система блокировок. Программы автоматической работы (рецепты) могут быть легко созданы и настроены с помощью дружественного интерфейса. Это позволяет легко адаптировать систему под новый технологический процесс и задачи Заказчика.

Установки могут быть модифицированы под нужды любого производства и под конкретные требования: изменены размеры вакуумного объёма, благодаря масштабируемой конструкции легко могут быть изменены габариты технологических устройств, увеличено количество используемых в цикле материалов до 6 и более.

Установка обеспечивает нанесение износостойких, упрочняющих, защитных, коррозионностойких, антифрикционных и других функциональных покрытий на изделия атомного, космического, авиационного и точного машиностроения. Напыление осуществляется с помощью дуговых испарителей и протяжённых магнетронных распылительных систем. В качестве покрытий могут быть нитриды, карбиды, оксиды металлов, а также алмазоподобные покрытия. Очистка деталей осуществляется источником ионов, выполненным по схеме ускорителя с замкнутым дрейфом электронов. Прогрев деталей обеспечивается трубчатыми электронагревателями.

Установка имеет модульную конструкцию и поставляется со стандартизированными легко масштабируемыми технологическими модулями. Это позволяет в кратчайшие сроки модифицировать установку под новые задачи.

D-образная в сечении вакуумная камера имеет ширину рабочего пространства 700 мм и высоту 830 мм. На боковых фланцах вакуумной камеры расположены модульные системы дугового испарения и магнетроны. В одном процессе может осуществляться испарение вакуумной дугой 4 различных материалов и магнетронное распыление 2 различных материалов. Применение системы Ротарк (RotArc, ДинаАрк, DynaArc, ГироАрк, GyroArc, КинетикАрк, KineticArc) позволяет увеличить коэффициент использования материала до 80 %. В дуговых испарителях применяется система инициации дуги ПлазмаДжет (PlasmaJet), исключающая сбои при поджиге разряда.

Кассета с обрабатываемыми деталями крепится на электроизолированной карусели. Максимальный вес кассеты 300 кг. Напряжение потенциала смещения до 1500 В, в постоянном, импульсном или биполярном режиме. Финишная чистка деталей осуществляется протяжённым источником ионов.

Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом с помощью широкодиапазонного пирометра. Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств.

Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10-4 Па.

Автоматика позволяет проводить процессы как в полностью автоматическом, так и в ручном режиме. Во избежание аварий предусмотрена система блокировок. Программы автоматической работы (рецепты) могут быть легко созданы и настроены с помощью дружественного интерфейса. Это позволяет легко адаптировать систему под новый технологический процесс и задачи Заказчика.

Установки могут быть модифицированы под нужды любого производства и под конкретные требования: изменены размеры вакуумного объёма, благодаря масштабируемой конструкции легко могут быть изменены габариты технологических устройств, увеличено количество используемых в цикле материалов до 6 и более.

Установка обеспечивает нанесение износостойких, упрочняющих, защитных, коррозионностойких, антифрикционных и других функциональных покрытий на изделия атомного, космического, авиационного и точного машиностроения. Напыление осуществляется с помощью дуговых испарителей и протяжённых магнетронных распылительных систем. В качестве покрытий могут быть нитриды, карбиды, оксиды металлов, а также алмазоподобные покрытия. Очистка деталей осуществляется источником ионов, выполненным по схеме ускорителя с замкнутым дрейфом электронов. Прогрев деталей обеспечивается трубчатыми электронагревателями.

Установка имеет модульную конструкцию и поставляется со стандартизированными легко масштабируемыми технологическими модулями. Это позволяет в кратчайшие сроки модифицировать установку под новые задачи.

D-образная в сечении вакуумная камера имеет ширину рабочего пространства 700 мм и высоту 830 мм. На боковых фланцах вакуумной камеры расположены модульные системы дугового испарения и магнетроны. В одном процессе может осуществляться испарение вакуумной дугой 4 различных материалов и магнетронное распыление 2 различных материалов. Применение системы Ротарк (RotArc, ДинаАрк, DynaArc, ГироАрк, GyroArc, КинетикАрк, KineticArc) позволяет увеличить коэффициент использования материала до 80 %. В дуговых испарителях применяется система инициации дуги ПлазмаДжет (PlasmaJet), исключающая сбои при поджиге разряда.

Кассета с обрабатываемыми деталями крепится на электроизолированной карусели. Максимальный вес кассеты 300 кг. Напряжение потенциала смещения до 1500 В, в постоянном, импульсном или биполярном режиме. Финишная чистка деталей осуществляется протяжённым источником ионов.

Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом с помощью широкодиапазонного пирометра. Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств.

Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10-4 Па.

Автоматика позволяет проводить процессы как в полностью автоматическом, так и в ручном режиме. Во избежание аварий предусмотрена система блокировок. Программы автоматической работы (рецепты) могут быть легко созданы и настроены с помощью дружественного интерфейса. Это позволяет легко адаптировать систему под новый технологический процесс и задачи Заказчика.

Установки могут быть модифицированы под нужды любого производства и под конкретные требования: изменены размеры вакуумного объёма, благодаря масштабируемой конструкции легко могут быть изменены габариты технологических устройств, увеличено количество используемых в цикле материалов до 6 и более.

Установка обеспечивает нанесение износостойких, упрочняющих, защитных, коррозионностойких, антифрикционных и других функциональных покрытий на изделия атомного, космического, авиационного и точного машиностроения. Напыление осуществляется с помощью дуговых испарителей и протяжённых магнетронных распылительных систем. В качестве покрытий могут быть нитриды, карбиды, оксиды металлов, а также алмазоподобные покрытия. Очистка деталей осуществляется источником ионов, выполненным по схеме ускорителя с замкнутым дрейфом электронов. Прогрев деталей обеспечивается трубчатыми электронагревателями.

Установка имеет модульную конструкцию и поставляется со стандартизированными легко масштабируемыми технологическими модулями. Это позволяет в кратчайшие сроки модифицировать установку под новые задачи.

D-образная в сечении вакуумная камера имеет ширину рабочего пространства 700 мм и высоту 830 мм. На боковых фланцах вакуумной камеры расположены модульные системы дугового испарения и магнетроны. В одном процессе может осуществляться испарение вакуумной дугой 4 различных материалов и магнетронное распыление 2 различных материалов. Применение системы Ротарк (RotArc, ДинаАрк, DynaArc, ГироАрк, GyroArc, КинетикАрк, KineticArc) позволяет увеличить коэффициент использования материала до 80 %. В дуговых испарителях применяется система инициации дуги ПлазмаДжет (PlasmaJet), исключающая сбои при поджиге разряда.

Кассета с обрабатываемыми деталями крепится на электроизолированной карусели. Максимальный вес кассеты 300 кг. Напряжение потенциала смещения до 1500 В, в постоянном, импульсном или биполярном режиме. Финишная чистка деталей осуществляется протяжённым источником ионов.

Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом с помощью широкодиапазонного пирометра. Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств.

Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10-4 Па.

Автоматика позволяет проводить процессы как в полностью автоматическом, так и в ручном режиме. Во избежание аварий предусмотрена система блокировок. Программы автоматической работы (рецепты) могут быть легко созданы и настроены с помощью дружественного интерфейса. Это позволяет легко адаптировать систему под новый технологический процесс и задачи Заказчика.

Установки могут быть модифицированы под нужды любого производства и под конкретные требования: изменены размеры вакуумного объёма, благодаря масштабируемой конструкции легко могут быть изменены габариты технологических устройств, увеличено количество используемых в цикле материалов до 6 и более.