(Русский) Электронная промышленность (Серия Бета)

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.

Установка обеспечивает нанесение проводящих, резистивных и полупроводниковых покрытий методом магнетронного распыления на подложки из керамики, полупроводников, стекла или металла при производстве радиоэлектронных компонентов: формирование контактных площадок, дорожек проводимости, пассивных радиоэлектронных компонентов, создание защитных и барьерных слоёв и т.п. Установка также обеспечивает возможность нанесения ферромагнитных покрытий. Вакуумная камера имеет вертикально расположенную цилиндрическую конструкцию. Магнетроны и источник ионов размещены на днище камеры и позволяют наносить многослойные покрытия. Подложки располагаются над магнетронами на электроизолированном поворотном устройстве, обеспечивающем вращение подложек и точное их позиционирование. Такая компоновка позволяет минимизировать попадание пылевых частиц на обрабатываемую положку. Нагрев подложек обеспечивается кварцевым нагревателем. Контроль сопротивления и температуры подложек проводится по образцу-свидетелю, располагаемому на подложкодержателе. Предусмотрено также измерение температуры подложек бесконтактным методом (широкодиапазонным пирометром). Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Магнетроны оснащены уникальной системой динамического управления параметрами работы магнетронных систем MagniFlex™, что позволяет получать тонкие плёнки с точно заданными параметрами. Катоды магнетронов могут быть изготовлены из таких материалов, как медь, титан, хром, резистивные сплавы (РС), ванадий, а также из ферромагнитных материалов, таких как никель или пермаллой. Диаметр катодов 105 мм (50 мм – опция). При смене катодов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Система напуска газа трёхканальная. Безмасляный вакуум обеспечивается с помощью формакуумного многоступенчатого насоса Рутса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6∙10-4 Па. Для работы установки необходимо только обеспечение электроэнергией. Система охлаждения установки имеет собственный замкнутый контур циркуляции теплоносителя и чиллер. Подключения к внешнему источнику воды и магистрали сжатого воздуха не требуется.