(Русский) Оптическая промышленность (Серия Гамма)

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.

 Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.Установка обеспечивает нанесение отражающих и многослойных оптических интерференционных покрытий на детали лазерной и ИК оптики. Напыление покрытий осуществляется электронно-лучевым испарителем и магнетронными распылительными системами. Магнетронные распылительные системы оснащены уникальной системой MagniFlex™, обеспечивающей гибкое управление рабочими параметрами. Методом электронно-лучевого испарения наносятся покрытия: SiO₂, Al₂O₃, MgF₂, ThO₂, ZnS, ZrO₂, HfO₂ и другие. Методом магнетронного распыления осаждаются покрытия: Ag, Al, WO₃, In₂O₃, ZrO₂, TiO₂ и другие.

Вакуумная камера имеет D-образную форму. Сухой (безмасляный) вакуум обеспечивается с помощью спирального формакуумного насоса и турбомолекулярного высоковакуумного насоса. Предельное остаточное давление для чистой камеры после 30 минут откачки составляет не более 6х10^-4 Па.

Электронно-лучевой испаритель, две магнетронные распылительные системы магнетрона с диаметром катода 105 мм и низковольтный источник ионов для ассистирования располагаются на днище вакуумной камеры. Обрабатываемые оптические детали устанавливаются на поворотном устройстве, расположенном в верхней части вакуумной камеры. Поворотное устройство обеспечивает равномерное осаждение покрытий на все обрабатываемые детали. Нагрев подложек осуществляется кварцевыми излучателями.

Для визуального контроля технологического процесса предусмотрено смотровое окно. Система напуска газа трёхканальная. При смене катодов магнетронов исключается протечка охлаждающей жидкости в вакуумную камеру при любом положении устройств. Толщина покрытий контролируется кварцевым резонансным датчиком. Оптические параметры покрытий контролируются панорамной системой оптического контроля, работающей на пропускание и на отражение. Контроль температуры подложек проводится бесконтактным методом широкодиапазонным пирометром.